角磨、研磨、刻磨、抛光分类及产品介绍

发布时间:

2023/12/25 23:55

叫做化学机械研磨,或者化学机械平坦化,简称CMP,这是一种加上了化学腐蚀buff的物理研磨手段,流程其实并不复杂,在做CMP时,晶圆会被固定在仪器上,面朝下压在抛光垫上进行旋转打磨,期间会不断注入精心调配的抛光液,让晶圆表层充分腐蚀氧化后,再被物理去除,最终磨出一个光滑的表面,

氧化铝是用于抛光各种表面的最重要的研磨材料之一,一般使用高纯纳米α-氧化铝抛光粉,主要应用于光学玻璃、晶体和合金材料的抛光。但含Al2O3的抛光液具有选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题,容易在抛光表面造成严重划伤,一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。

需要注意的是,不同类型的材料需要选择不同的抛光液和研磨纸,抛光过程中需要注意保持样品表面的平整度和精度,否则会影响样品的检测结果。

为解决研磨热及高硬度工件的抛光问题,建议选择结合剂耐热性强,散热性能良好的弹性砂轮,弹性砂轮的优点是贴合表面进行抛光,面对各式材质及形状都能轻松驾驭,连接销因为物件极小,所以夹持相对不稳定,易产生研磨震动,加上镀铬后硬度提高,砂轮磨料的选择也是非常重要的一环,整体而言,弹性吸收震动,磨料进行研削抛光,希望的内容能够对大家有所帮助。

需依据待磨物的硬度与研磨目标(镜面抛光/抛光等),以及研磨工艺种类(机械/CMP等)来挑选合适的材质。陶瓷磨料的材质除了是成分选择外,还要注意陶瓷磨料的结晶相。此部分也要考量抛光垫的材质搭配。

需依据待磨物的表面状态与研磨目标(镜面抛光/抛光等)及移除率的考量,挑选合适的陶瓷磨料的形状。比如说对于硅晶圆抛光,将α氧化铝粉制为平板状,这样研磨时颗粒就能贴合工件表面,产生滑动的研磨效果,避免了颗粒尖角对工件表面的划伤,且研磨压力均匀分布在颗粒表面,颗粒不易破碎,从而提高了研磨效率和表面光洁度,可以减少磨削时间,大幅提高研磨效率。

配置好的新鲜抛光液,会在通过密度PH值等检测后,在打磨过程中持续注入,因为只有让液体时刻保持流动,才能有效带走研磨中产生的热量和碎屑。

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